命令条目: 
创建灯光。
“常规参数”卷展栏 “阴影”组 选择“光线跟踪阴影”。“光线跟踪阴影参数”卷展栏
命令条目:选择灯光。 
“修改”面板 “常规参数”卷展栏 “阴影”组 选择“光线跟踪阴影”。“光线跟踪阴影参数”卷展栏
当已选择光线跟踪作为灯光的阴影生成技术时，显示“光线跟踪阴影参数”卷展栏。可以在“常规参数”卷展栏中选择此选项。
扫描线渲染器和 mental ray 渲染器均支持“光线跟踪”阴影。
提示如果使用的是扫描线渲染器，则通过高级光线跟踪阴影可对阴影外观进行更多控制。
光线跟踪阴影
界面
光线偏移
阴影偏移是将阴影移向或移离投射阴影的对象。
如果“偏移”值太低，阴影可能在无法到达的地方“泄露”，从而生成叠纹图案或在网格上生成不合适的黑色区域。如果偏移值太高，阴影可能从对象中“分离”。在任何一方向上如果偏移值是极值，则阴影根本不可能被渲染。
使用光线跟踪器调整四元树的深度。增大四元树深度值可以缩短光线跟踪时间，但却以占用内存为代价。然而，使用这个深度值虽然可以改善性能，但是却要花费大量的时间才能生成四元树本身。这取决于场景的几何体。默认值为 7。
提示泛光灯最多可以生成六个四元树，因此它们生成光线跟踪阴影的速度比聚光灯生成阴影的速度慢。避免将光线跟踪阴影与泛光灯一起使用，除非场景中有这样的要求。
双面阴影
启用此选项后，计算阴影时背面将不被忽略。从内部看到的对象不由外部的灯光照亮。这样将花费更多渲染时间。禁用该选项后，将忽略背面。渲染速度更快，但外部灯光将照亮对象的内部。默认设置为启用。
如果未选定“双面阴影”，则切片球体内的面并不投射阴影。
注意mental ray 渲染器会忽略此设置，并始终呈现双面阴影。
最大四元树深度
