命令条目: 
“创建”面板 
（灯光） 创建灯光。“常规参数”卷展栏 “阴影”组 “阴影类型”“高级”光线跟踪
命令条目:选择灯光。 
“修改”面板 “常规参数”卷展栏 “阴影”组 “阴影类型”“高级”光线跟踪
高级光线跟踪阴影与光线跟踪阴影相似；但是它对阴影具有较强的控制能力在“优化”卷展栏中可使用其他控件。
mental ray 渲染器不支持“高级光线跟踪”阴影。当它遇到具有此阴影类型的灯光时，会改为生成光线跟踪阴影，并为该效果显示警告。
高级光线跟踪阴影由区域灯光投影。
界面
“基本选项”组
[光线跟踪模式下拉列表]
选择生成阴影的光线跟踪类型：
简单向曲面投影单个光线。未执行抗锯齿。
单过程抗锯齿投射光线束。从每一个照亮的曲面中投影的光线数量都相同。使用“阴影完整性”微调器设置光线数。
双过程抗锯齿（默认设置。）投影两个光线束。第一批光线确定否完全照亮出现问题的点、是否向其投射阴影或其是否位于阴影的半影（柔化区域）中。如果点在半影中，则第二批光线束将被投影以便进一步细化边缘。使用“阴影完整性”微调器指定初始光线数。使用“阴影质量”微调器指定二级光线数。
启用此选项后，计算阴影时背面将不被忽略。从内部看到的对象不由外部的灯光照亮。这样将花费更多渲染时间。禁用该选项后，将忽略背面。渲染速度更快，但外部灯光将照亮对象的内部。默认设置为禁用。
如果未选定“双面阴影”，则切片球体内的面并不投射阴影。
从照亮的曲面中投影的光线数。当光线跟踪模式为“简单”时，将禁用此选项。
从照亮的曲面中投影的二级光线数量。当光线跟踪模式为“简单”或“单过程抗锯齿”时，将禁用此选项。
要模糊抗锯齿边缘的半径（以像素为单位）。当光线跟踪模式为“简单”时，将禁用此选项。
通过增加阴影传播值来柔化阴影边缘。
注意随着该值的增加，模糊的质量越高。然而，增加该值也会增加丢失小对象的可能性。为了避免出现此问题，请增加第 1 周期质量的值。
阴影偏移是与着色点的最小距离，对象必须在这个距离内投射阴影。这样将使模糊的阴影避免影响它们不应影响的曲面。
注意随着模糊值的增加，也应该增加偏移。
向光线位置添加随机性。开始时光线为非常规则的图案，它可以将阴影的模糊部分显示为常规的人工效果。抖动将这些人工效果转换为噪波，通常这对于人眼来说并不明显。建议的值为 0.25 至 1.0。但是，非常模糊的阴影将需要更多抖动。当光线跟踪模式为“简单”时，将禁用此选项。
双面阴影
“抗锯齿选项”组
阴影完整性
阴影质量
阴影扩散
阴影偏移
抖动量
