命令条目: 
“创建”面板 
（灯光）“光度学” 创建灯光。 
“修改”面板 “常规参数”卷展栏。
命令条目:标准菜单：“创建”菜单 “灯光”“光度学灯光” 创建灯光。 “修改”面板 “常规参数”卷展栏。
命令条目:增强型菜单：“对象”菜单 “灯光” 选择光度学灯光 创建灯光。 “修改”面板 “常规参数”卷展栏。
使用光度学灯光时，会显示此“常规参数”卷展栏。这些控件用于启用和禁用灯光，并且排除或包含场景中的对象。通过它们，您还可以设置灯光分布的类型。
在“修改”面板上，“常规参数”卷展栏也控制灯光的目标对象并将灯光从一种类型更改为另一种类型。
“常规参数”卷展栏也用于对灯光启用或禁用投射阴影，并且选择灯光使用的阴影类型。请参见阴影类型和阴影控件和阴影参数。
过程
要启用和禁用灯光：
启用或禁用“启用”切换。
默认设置为启用。
要使灯光投射阴影，请执行以下操作：
在“常规参数”卷展栏
“阴影”组中，确保选中“启用”。
现在当渲染场景时灯光将投射阴影。
左图：采用聚光灯分布，投影锥体可截断阴影。
右图：采用统一球形分布，灯光可以投影完整的阴影。
要使灯光使用阴影的全局设置，请执行以下操作：
在“常规参数”卷展栏上的“阴影参数”组中，启用“使用全局设置”。
启用“使用全局设置”后，其他阴影控件设置为场景中所有其他投射阴影的灯光使用的值，而该场景已设置“使用全局设置”。
使用“使用全局设置”更改一个灯光的影响参数，使用“使用全局设置”更改所有灯光的影响参数。
要分别设置灯光的阴影参数，请执行以下操作：
在“常规参数”卷展栏上，禁用“使用全局设置”。
该设置还原为灯光的单个设置。
默认情况下，阴影贴图是活动的阴影类型。在“阴影贴图参数”卷展栏中，默认设置为：贴图偏移 = 1、大小 = 512、采样范围 = 4.0，绝对贴图偏移 = 禁用。
使用阴影贴图阴影的场景
使用默认参数设置渲染的阴影
提示渲染场景时，可以启用或禁用阴影的渲染。
要投影区域阴影，请执行以下操作：
在“常规参数”卷展栏上，从下拉列表中选择“区域阴影”。
使用“区域阴影”卷展栏上的控件以调整阴影属性。
要投影高级光线跟踪阴影，请执行以下操作：
高级光线跟踪阴影与光线跟踪阴影类似，但是高级光线跟踪阴影提供对抗锯齿的控制，可以微调阴影的生成方式。
在“常规参数”卷展栏上，从下拉列表中选择“高级光线跟踪阴影”。
使用“高级光线跟踪参数”卷展栏上的控件以调整阴影属性。
要投射阴影贴图的阴影，请执行以下操作：
在“常规参数”卷展栏上，从下拉列表中选择“阴影贴图”。
转到“阴影贴图参数”卷展栏。
使用“大小”微调器设置阴影贴图的大小。
如有必要，使用“偏移”微调器调整阴影偏移。
使用“采样范围”微调器创建柔和边缘的阴影。
要投影光线跟踪阴影，请执行以下操作：
光线跟踪阴影是通过跟踪从光源进行采样的光线路径生成的。光线跟踪阴影比阴影贴图阴影更精确。
在“常规参数”卷展栏上的“阴影”组中，从下拉列表中选择“光线跟踪阴影”。
使用“光线跟踪阴影参数”卷展栏上的控件以调整阴影偏移（如果需要）。
要使对象不投射阴影，请执行以下操作：
选择对象。 右键单击对象以显示四元菜单，然后从“变换”（右下方）区域中选择“属性”。
显示“对象属性”对话框。
禁用“投射阴影”，然后单击“确定”。
现在当渲染场景时，该对象不投射阴影。
要使对象不接收阴影，请执行以下操作：
- 选择对象。
右键单击对象以显示四元菜单，然后从“变换”（右下方）区域中选择“属性”。
显示“对象属性”对话框。
禁用“接收阴影”，然后单击“确定”。
现在当渲染场景时，该对象不接收阴影。
注意通过将对象从灯光中排除也可以使对象不投射阴影。
界面
“灯光属性”组
启用
（“创建”面板和“修改”面板）启用和禁用灯光。当“启用”选项处于启用状态时，使用灯光着色和渲染以照亮场景。当“启用”选项处于禁用状态时，进行着色或渲染时不使用该灯光。默认设置为启用。
在视口中，交互式渲染器显示启用或禁用灯光的效果。
启用此选项之后，该灯光将具有目标。禁用此选项之后，则可使用变换指向灯光。通过切换，可将目标灯光更改为自由灯光，反之亦然。
显示目标距离。对于目标灯光，该字段仅显示距离。对于自由灯光，则可以通过输入值更改距离。
决定当前灯光是否投射阴影。默认设置为启用。
启用此选项以使用该灯光投射阴影的全局设置。禁用此选项以启用阴影的单个控件。如果未选择使用全局设置，则必须选择渲染器使用哪种方法来生成特定灯光的阴影。
当启用“使用全局设置”后，切换阴影参数显示全局设置的内容。该数据由此类别的其他每个灯光共享。当禁用“使用全局设置”后，阴影参数将针对特定灯光。
高级光线跟踪阴影请参见“高级光线跟踪参数”卷展栏和“优化”卷展栏。
区域阴影请参见“区域阴影”卷展栏和“优化”卷展栏。
mental ray 阴影贴图请参见“mental ray 阴影贴图”卷展栏。
光线跟踪阴影请参见“光线跟踪阴影参数”卷展栏。
阴影贴图请参见“阴影贴图参数”卷展栏。
将选定对象排除于灯光效果之外。单击此按钮可以显示“排除/包含”对话框。
排除的对象仍在着色视口中被照亮。只有当渲染场景时排除才起作用。
通过灯光分布下拉列表，可选择灯光分布的类型。具有四个选项：
光度学 Web
选择此选项，“分布（光度学文件）”卷展栏显示在“命令”面板上。
聚光灯
选择此选项，“分布（聚光灯）”卷展栏显示在“命令”面板上。
统一漫反射
统一球形
无论是漫反射还是球形的统一分布都未提供其他设置，因此这些选择不会显示特殊的“分布”卷展栏。
目标
目标距离
“阴影”组
启用
使用全局设置
阴影方法下拉列表
决定渲染器是否使用阴影贴图、光线跟踪阴影、高级光线跟踪阴影或区域阴影生成该灯光的阴影。
所提供的“mental ray 阴影贴图”类型与 mental ray 渲染器一起使用。当选择该阴影类型并启用阴影贴图（位于“渲染设置”对话框的“阴影与位移”卷展栏上）时，阴影使用 mental ray 阴影贴图算法。如果选中该类型但使用默认扫描线渲染器，则进行渲染时不显示阴影。
注意当启用阴影贴图并且阴影贴图类型为“阴影贴图”时，mental ray 渲染器试图将阴影贴图设置转换为 mental ray 阴影贴图的类似设置。（效果可能并不是您所想要的。）在其他情况下，mental ray 渲染器生成光线跟踪阴影。
每一种阴影类型都有其特定控件：
提示当想要不透明度贴图对象投影的阴影时，请使用光线跟踪或高级光线跟踪阴影。阴影贴图阴影不识别贴图的透明部分，因此它们看起来并不真实可信。
“排除”按钮
“灯光分布（类型）”组
[下拉列表]
