遮挡的定义

环境光遮挡是指阻挡对象上的间接或漫反射光线。它指对象的较暗区域，通常为折痕、裂缝和缺口。环境光遮挡的形成原因是：间接光线无法反弹和照亮由附近吸收光线的对象遮挡的区域。这些光线的细微变化对我们的眼睛是一种提示，可检测本该褪色和不易察觉的曲面细节和区别。环境光遮挡可在缺口、角落和裂缝等中添加阴影，从而使场景更逼真。对于每个曲面点，它会计算多少光被其他几何体遮挡。              

在下面的示例中，由于冰块之间的阴影而使它们更醒目。由于冰砖遮挡了光线，因此冰砖之间的裂缝看起来更暗。这就是环境光遮挡。

环境光遮挡的应用

有时场景中的光线可能过于明亮，从而掩盖了曲面细节。环境光遮挡可模拟多云天空产生的阴影 ― 它突出裂缝和缺口，同时使光线柔和地布满场景。如果场景包含许多遮挡的缺口，或要向场景中添加软阴影，请使用环境光遮挡。

例如，环境光遮挡的示例应用包括创建用于合成的方法。

在场景中合并环境光遮挡

可使用以下方法之一计算环境光遮挡：  

  • 使用“mib_amb_occlusion” 着色器。许多探测光线在半球形区域中的每个点上进行跟踪，探测光线可确定场景中其他几何体遮挡的区域的范围。                

  • 使用“mib_fg_occlusion” 着色器。光线从预计算阶段创建的特殊最终聚集点发射。相反，使用 “mib_amb_occlusion” 着色器时，光线从着色点发射。                

  • 使用“传递贴图”(Transfer Map)工具。从高分辨率对象生成环境光遮挡贴图，然后使用“传递贴图”(Transfer Map)工具将该贴图烘焙到低分辨率对象的网格。该选项使低分辨率对象看起来具有环境光遮挡细节。有关“传递贴图”(Transfer Map)工具的详细信息，请参见传递贴图(Transfer Map)。

    提示“mib_fg_occlusion”算法也使用过滤，因此产生的结果比 “mib_amb_occlusion”着色器更平滑。

    “mib_fg_occlusion”和“mib_amb_occlusion”算法将半透明对象视为不透明的。遮挡光线不会穿透通过这些对象。

    注意

    使用"mib_fg_occlusion"着色器计算遮挡与直接使用最终聚集不同。在前一种情况中，实际上不会反弹光线。“mib_fg_occlusion”着色器算法只使用预计算最终聚集点来发射光线以及平滑和过滤最终聚集的算法。


在 mental Ray for Maya 中烘焙遮挡              

若要在 mental Ray for Maya 中烘焙遮挡，请选择照明/着色 > 批烘焙(mental Ray)(Lighting/shading > Batch Bake (mental Ray))。在“纹理烘焙集覆盖”(Texture Bake Set Override)（或“顶点烘焙集覆盖”(Vertices Bake Set Override)）区域中选择“颜色模式”(Color Mode)下的“遮挡”(Occlusion)。                

有关批烘焙选项的详细信息，请参见照明/着色 > 批烘焙(mental Ray)(Lighting/shading > Batch Bake (mental Ray))。                

创建遮挡文件来进行外部合成              

可运行仅渲染环境光遮挡的遮挡过程。这可用作接触阴影过程。有关详细信息，请参见使用层预设。                

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