在阵列中更改间距和特征尺寸允许您生成更多复杂阵列。
在 FeatureManager 设计树中,选择 Lpattern 然后单击编辑特征。
在 PropertyManager 中,单击要改变的实例。
要为方向 1 添加间距增量,在方向 1 增量下的方向 1 间距增量 中输入值。值可为正值或负值。
如果值为正值,软件会为每个实例累积增加间距。 如果值为负值,阵列中每个实例之间的间距会累积减少。
例如,如果实例之间的间距为 50mm,且您为方向 1 间距增量添加 20mm,则第二个实例与第一个实例相距 70mm,第三个实例与第二个实例相距 90mm,依次类推。
您还可在间距增量 标注中更改间距增量值。
要为方向 1 添加特征尺寸,在图形区域单击源特征尺寸。
一个表格会出现在框中。
在增量下输入值。 增量会更改“方向 1”中每个实例的尺寸。
您为特征尺寸指定的增量会更改每个实例的大小。
在以下示例中,源特征为切除拉伸。 源特征高度为 8mm,且高度尺寸的增量为 10mm。 后续实例高度会增加至 18mm、28mm、38mm 和 48mm。
如有必要,为方向 2 增量重复上述步骤。
单击 。