自上而下的设计
在自上而下装配体设计中,零件的一个或多个特征由装配体中的某项定义,如布局草图或另一零件的几何体。设计意图(特征大小、装配体中零部件的放置,与其它零件的靠近,等)来自顶层(装配体)并下移(到零件中),因此称为”自上而下”。
例如,当您使用拉伸命令在塑料零件上生成定位销时,您可选择成形到面选项并选择线路板的底面(不同零件)。该选择将使定位销长度刚好接触线路板,即使线路板在将来设计更改中移动。这样销钉的长度在装配体中定义,而不被零件中的静态尺寸所定义。
方法
您可使用一些或所有自上而下设计法中某些方法:
单个特征 可通过参考装配体中的其他零件而自上而下设计,如上述定位销情形。 在自下而上设计中,零件在单独窗口中建造,此窗口中只可看到零件。 然而,SOLIDWORKS 也允许您在装配体窗口中操作时编辑零件。 这可使所有其它零部件的几何体供参考之用(例如,复制或标注尺寸)。 该方法对于大多是静态但具有某些与其它装配体零部件交界之特征的零件较有帮助。
完整零件可通过在关联装配体中创建新零部件而以自上而下方法建造。您所建造的零部件实际上附加(配合)到装配体中的另一现有零部件。您所建造的零部件的几何体基于现有零部件。该方法对于像托架和器具之类的零件较有用,它们大多或完全依赖其它零件来定义其形状和大小。
整个装配体亦可自上而下设计,先通过建造定义零部件位置、关键尺寸等的布局草图。接着使用以上方法之一建造 3D 零件,这样 3D 零件遵循草图的大小和位置。草图的速度和灵活性可让您在建造任何 3D 几何体之前快速尝试数个设计版本。即使在您建造 3D 几何体后,草图可让您在一中心位置进行大量更改。
考虑事项
只要在您使用自上而下技术生成零件或特征时,都将为您所参考的几何体生成外部参考引用。
在某些情况下,带有大量关联特征(此构成自上而下设计的基础)的装配体可能比无关联特征的同一装配体需要更长时间重建。
SOLIDWORKS 已优化,只重建更改过的零件。在创建关联特征时,记住不要生成有冲突的配合很重要,因为此类配合可引起重建时间较长及不可预料的几何体行为。您一般可通过不给由关联特征所创建的几何体生成配合来避免这些冲突。
内容
在装配体中生成零件
在装配体中编辑零件
插入新的子装配体
装配体布局草图
虚拟零部件
虚拟零部件保存在装配体文件内部,而不是在单独的零件文件或子装配体文件中。
外部参考引用
外部参考是在一个文件依赖于另一个文件求解时生成的。如果参考引用的文档改变,则依赖于它的文件也会改变。